鎳基高溫合金由於γ/γ′顯微組織而具有優异高溫效能和機械效能,已廣泛應用於航空發動機渦輪葉片等。雖然在鎳基單晶(Ni-SX)高溫合金的設計和開發中不考慮晶界的影響,但合金的失效行為仍然很複雜,涉及許多微觀效應,其中之一是基體擴散控制的γ′析出相的粗化行為。大量實驗表明,錸(Re)的加入能够顯著降低γ′相的粗化動力學。已有研究表明,在Ni-Al-Cr合金中加入2% Re使γ′粗化動力學降低了約兩個數量級,然而對反應機理仍有不同的看法。在大多數報導中認為Re降低合金的擴散係數,從而提高高溫穩定性,有效地阻礙了γ′粗化。然而另有報導認為在γ基體中其他溶質的擴散率幾乎不受Re的影響。囙此,Re對γ/γ′相的影響機理仍有待進一步研究和探索。
西北工業大學的研究人員揭示了Ni-SX高溫合金在長期時效過程中,介面上Re偏析的形成,深入探討了Re在Ni-SX合金中的作用,成功地確定了Re在γ/γ′介面的偏析現象以及Re與γ′粗化的相互影響。相關論文以題為“Unveiling the Resegregation atγ/γ′interface inNi-based superalloy”發表在Scripta Materialia。
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https://doi.org/10.1016/j.scriptamat.2021.114131
合金成分為:Ni-10Cr-9Co-0.5Mo-4W-4.3Al-2.5Ti-2Re-5Ta(wt%)。採用Bridgeman定向凝固法沿[001]方向對3個單晶錠進行定向凝固,進行1240℃/2h+1260℃/4h+1265℃/2h(空冷);1130℃×4h(空冷);870℃×20h(空冷)熱處理,下文簡稱為SHT。SHT後分別在900℃和1000℃進行等溫長時效(2000h空冷),下文簡稱為LTAT900和LTAT1000。
研究發現SHT析出相的平均尺寸為0.41μm,LTAT900和LTAT1000析出相平均尺寸分別為0.68μm和1.21μm。SHT中γ′體積分數為57.6%,LTAT900為51.2%,LTAT1000為48.1%。在較高溫度(950-1100℃)時,Re在基體中的擴散率小於γ′相生長的實際擴散,Re的擴散效率較低,Re原子在γ/γ′介面不斷積累並形成偏析。而在低溫(800-900℃)時,Re的擴散與γ′相的生長持平,Re原子能够擴散而避免在介面上聚集。
圖1 SHT、LTAT900和LTAT1000的TEM圖
圖2(a)LTAT1000的APT結果;(b)γ/γ′介面分析;(c)γ/γ′介面Re富集;(d)γ/γ′介面Re分佈圖
圖3(a)Re、(b)Ta在SHT、LTAT900和LTAT1000的γ/γ′介面上的一維分佈。(c)γ和γ′相之間的元素分配係數和元素擴散示意圖
圖4(a)不同溫度下γ′粗化過程中有效擴散(De)與Re在γ基體中的擴散(DRe)比較;γ′粗化過程中γ/γ′介面Re偏析形成機制:(b)低溫(800-900℃)、(c)高溫(950-1100℃)
在高溫時效過程中,γ′相發生嚴重粗化,Cr、Co、Mo、Re元素幾乎不向γ′相擴散,而Al、Ti、Ta擴散到γ′相中,完成γ′生長。稀土在介面上的偏析形成機制可以概括為兩個不同的階段:高溫階段和低溫階段。在較高的溫度(950-1100℃)下,γ基體中的Re擴散率大大低於γ′相的擴散,無法實現γ′相的平衡生長,囙此隨著γ/γ′介面的遷移,Re原子在介面處努力擴散並不斷積累,形成Re偏析。而在較低溫度(800-900℃)時,Re擴散能够平衡γ′相生長的有效擴散,Re原子更容易擴散,避免在介面上聚集。高溫階段γ′相的驅動力較大,而冷卻階段γ′相的驅動力較小。本文研究了Ni-SX高溫合金在不同熱處理後γ/γ′介面上的Re偏析現象,對Ni-SX高溫合金的設計開發提供了理論基礎。
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